Pertumbuhan dan Penulenan Kristal Telurium 7N

Berita

Pertumbuhan dan Penulenan Kristal Telurium 7N

Pertumbuhan dan Penulenan Kristal Telurium 7N


I. Prarawatan Bahan Mentah dan Penulenan Awal

  1. Pemilihan Bahan Mentah dan Penghancuran
  • Keperluan Bahan‌: Gunakan bijih telurium atau lendir anod (kandungan Te ≥5%), sebaik-baiknya lendir anod peleburan kuprum (mengandungi Cu₂Te, Cu₂Se) sebagai bahan mentah.
  • Proses Pra-rawatan‌:
  • Penghancuran kasar sehingga saiz zarah ≤5mm, diikuti dengan pengisaran bebola sehingga ≤200 mesh;
  • Pemisahan magnet (keamatan medan magnet ≥0.8T) untuk menyingkirkan Fe, Ni dan bendasing magnet yang lain;
  • Pengapungan buih (pH=8-9, pengumpul xanthat) untuk mengasingkan SiO₂, CuO dan bendasing bukan magnet yang lain.
  • Langkah berjaga-berjaga‌: Elakkan daripada memasukkan kelembapan semasa prarawatan basah (memerlukan pengeringan sebelum memanggang); kawal kelembapan ambien ≤30%.
  1. Pemanggangan dan Pengoksidaan Pirometalurgi
  • Parameter Proses‌:
  • Suhu pemanggangan pengoksidaan: 350–600°C (kawalan berperingkat: suhu rendah untuk penyahsulfuran, suhu tinggi untuk pengoksidaan);
  • Masa pemanggangan: 6–8 jam, dengan kadar aliran O₂ 5–10 L/min;
  • Reagen: Asid sulfurik pekat (98% H₂SO₄), nisbah jisim Te₂SO₄ = 1:1.5.
  • Reaksi Kimia‌:
    Cu2Te+2O2+2H2SO4→2CuSO4+TeO2+2H2OCu2​Te+2O2​+2H2​SO4​→2CuSO4​+TeO2​+2H2​O
  • Langkah berjaga-berjaga‌: Kawal suhu ≤600°C untuk mencegah pengewapan TeO₂ (takat didih 387°C); rawat gas ekzos dengan penggosok NaOH.

II. Penapisan Elektro dan Penyulingan Vakum

  1. Penapisan Elektro
  • Sistem Elektrolit‌:
  • Komposisi elektrolit: H₂SO₄ (80–120g/L), TeO₂ (40–60g/L), bahan tambahan (gelatin 0.1–0.3g/L);
  • Kawalan suhu: 30–40°C, kadar aliran edaran 1.5–2 m³/j.
  • Parameter Proses‌:
  • Ketumpatan arus: 100–150 A/m², voltan sel 0.2–0.4V;
  • Jarak elektrod: 80–120mm, ketebalan pemendapan katod 2–3mm/8j;
  • Kecekapan penyingkiran bendasing: Cu ≤5ppm, Pb ≤1ppm.
  • Langkah berjaga-berjaga‌: Tapis elektrolit secara berkala (ketepatan ≤1μm); gilap permukaan anod secara mekanikal untuk mengelakkan pempasifan.
  1. Penyulingan Vakum
  • Parameter Proses‌:
  • Aras vakum: ≤1×10⁻²Pa, suhu penyulingan 600–650°C;
  • Suhu zon pemeluwap: 200–250°C, Kecekapan pemeluwapan wap Te ≥95%;
  • Masa penyulingan: 8–12 jam, kapasiti kelompok tunggal ≤50kg.
  • Pengagihan Kekotoran‌: Bendasing mendidih rendah (Se, S) terkumpul di bahagian hadapan kondenser; bendasing mendidih tinggi (Pb, Ag) kekal dalam sisa.
  • Langkah berjaga-berjaga‌: Pra-pam sistem vakum kepada ≤5×10⁻³Pa sebelum pemanasan untuk mengelakkan pengoksidaan Te.

III. Pertumbuhan Kristal (Penghabluran Berarah)

  1. Konfigurasi Peralatan
  • Model Relau Pertumbuhan Kristal‌: TDR-70A/B (kapasiti 30kg) atau TRDL-800 (kapasiti 60kg);
  • Bahan mangkuk pijar: Grafit ketulenan tinggi (kandungan abu ≤5ppm), dimensi Φ300×400mm;
  • Kaedah pemanasan: Pemanasan rintangan grafit, suhu maksimum 1200°C.
  1. Parameter Proses
  • Kawalan Leburan‌:
  • Suhu lebur: 500–520°C, kedalaman kolam lebur 80–120mm;
  • Gas pelindung: Ar (kesucian ≥99.999%), kadar aliran 10–15 L/min.
  • Parameter Penghabluran‌:
  • Kadar tarikan: 1–3mm/j, kelajuan putaran kristal 8–12rpm;
  • Kecerunan suhu: Paksi 30–50°C/cm, jejari ≤10°C/cm;
  • Kaedah penyejukan: Asas kuprum yang disejukkan dengan air (suhu air 20–25°C), penyejukan radiasi atas.
  1. Kawalan Kekotoran
  • Kesan Pengasingan‌: Bendasing seperti Fe, Ni (pekali pengasingan <0.1) terkumpul di sempadan butiran;
  • Kitaran Peleburan Semula‌: 3–5 kitaran, jumlah bendasing akhir ≤0.1ppm.
  1. Langkah berjaga-berjaga‌:
  • Tutup permukaan leburan dengan plat grafit untuk menyekat pengewapan Te (kadar kehilangan ≤0.5%);
  • Pantau diameter kristal dalam masa nyata menggunakan tolok laser (ketepatan ±0.1mm);
  • Elakkan turun naik suhu >±2°C untuk mengelakkan peningkatan ketumpatan kehelan (sasaran ≤10³/cm²).

IV. Pemeriksaan Kualiti dan Metrik Utama

Item Ujian

Nilai Piawai

Kaedah Ujian

Sumber

Ketulenan

≥99.99999% (7N)

ICP-MS

Jumlah Kekotoran Logam

≤0.1ppm

GD-MS (Spektrometri Jisim Pelepasan Cahaya)

Kandungan Oksigen

≤5ppm

Penyerapan IR-Peleburan Gas Lengai

Integriti Kristal

Ketumpatan Dislokasi ≤10³/cm²

Topografi Sinar-X

Kerintangan (300K)

0.1–0.3Ω·cm

Kaedah Empat-Probe


‌V. Protokol Alam Sekitar dan Keselamatan‌

  1. Rawatan Gas Ekzos‌:
  • Ekzos pemanggangan: Meneutralkan SO₂ dan SeO₂ dengan penggosok NaOH (pH≥10);
  • Ekzos penyulingan vakum: Mengewap dan mendapatkan semula wap Te; gas sisa terjerap melalui karbon teraktif.
  1. Kitar Semula Sanga‌:
  • Lendir anod (mengandungi Ag, Au): Dipulihkan melalui hidrometallurgi (sistem H₂SO₄-HCl);
  • Sisa elektrolisis (mengandungi Pb, Cu): Kembali ke sistem peleburan kuprum.
  1. Langkah-langkah Keselamatan‌:
  • Pengendali mesti memakai topeng gas (Wap adalah toksik); mengekalkan pengudaraan tekanan negatif (kadar pertukaran udara ≥10 kitaran/j).

Garis Panduan Pengoptimuman Proses

  1. Adaptasi Bahan Mentah‌: Laraskan suhu pemanggangan dan nisbah asid secara dinamik berdasarkan sumber lendir anod (cth., peleburan kuprum vs. plumbum);
  2. Padanan Kadar Tarikan Kristal‌: Laraskan kelajuan tarikan mengikut perolakan leburan (nombor Reynolds Re≥2000) untuk menyekat penyejukan lampau perlembagaan;
  3. Kecekapan Tenaga‌: Gunakan pemanasan zon suhu dua hala (zon utama 500°C, sub-zon 400°C) untuk mengurangkan penggunaan kuasa rintangan grafit sebanyak 30%.

Masa siaran: 24 Mac 2025