Pertumbuhan dan Penulenan Kristal Telurium 7N
I. Prarawatan Bahan Mentah dan Penulenan Awal
- Pemilihan Bahan Mentah dan Penghancuran
- Keperluan Bahan: Gunakan bijih telurium atau lendir anod (kandungan Te ≥5%), sebaik-baiknya lendir anod peleburan kuprum (mengandungi Cu₂Te, Cu₂Se) sebagai bahan mentah.
- Proses Pra-rawatan:
- Penghancuran kasar sehingga saiz zarah ≤5mm, diikuti dengan pengisaran bebola sehingga ≤200 mesh;
- Pemisahan magnet (keamatan medan magnet ≥0.8T) untuk menyingkirkan Fe, Ni dan bendasing magnet yang lain;
- Pengapungan buih (pH=8-9, pengumpul xanthat) untuk mengasingkan SiO₂, CuO dan bendasing bukan magnet yang lain.
- Langkah berjaga-berjaga: Elakkan daripada memasukkan kelembapan semasa prarawatan basah (memerlukan pengeringan sebelum memanggang); kawal kelembapan ambien ≤30%.
- Pemanggangan dan Pengoksidaan Pirometalurgi
- Parameter Proses:
- Suhu pemanggangan pengoksidaan: 350–600°C (kawalan berperingkat: suhu rendah untuk penyahsulfuran, suhu tinggi untuk pengoksidaan);
- Masa pemanggangan: 6–8 jam, dengan kadar aliran O₂ 5–10 L/min;
- Reagen: Asid sulfurik pekat (98% H₂SO₄), nisbah jisim Te₂SO₄ = 1:1.5.
- Reaksi Kimia:
Cu2Te+2O2+2H2SO4→2CuSO4+TeO2+2H2OCu2Te+2O2+2H2SO4→2CuSO4+TeO2+2H2O - Langkah berjaga-berjaga: Kawal suhu ≤600°C untuk mencegah pengewapan TeO₂ (takat didih 387°C); rawat gas ekzos dengan penggosok NaOH.
II. Penapisan Elektro dan Penyulingan Vakum
- Penapisan Elektro
- Sistem Elektrolit:
- Komposisi elektrolit: H₂SO₄ (80–120g/L), TeO₂ (40–60g/L), bahan tambahan (gelatin 0.1–0.3g/L);
- Kawalan suhu: 30–40°C, kadar aliran edaran 1.5–2 m³/j.
- Parameter Proses:
- Ketumpatan arus: 100–150 A/m², voltan sel 0.2–0.4V;
- Jarak elektrod: 80–120mm, ketebalan pemendapan katod 2–3mm/8j;
- Kecekapan penyingkiran bendasing: Cu ≤5ppm, Pb ≤1ppm.
- Langkah berjaga-berjaga: Tapis elektrolit secara berkala (ketepatan ≤1μm); gilap permukaan anod secara mekanikal untuk mengelakkan pempasifan.
- Penyulingan Vakum
- Parameter Proses:
- Aras vakum: ≤1×10⁻²Pa, suhu penyulingan 600–650°C;
- Suhu zon pemeluwap: 200–250°C, Kecekapan pemeluwapan wap Te ≥95%;
- Masa penyulingan: 8–12 jam, kapasiti kelompok tunggal ≤50kg.
- Pengagihan Kekotoran: Bendasing mendidih rendah (Se, S) terkumpul di bahagian hadapan kondenser; bendasing mendidih tinggi (Pb, Ag) kekal dalam sisa.
- Langkah berjaga-berjaga: Pra-pam sistem vakum kepada ≤5×10⁻³Pa sebelum pemanasan untuk mengelakkan pengoksidaan Te.
III. Pertumbuhan Kristal (Penghabluran Berarah)
- Konfigurasi Peralatan
- Model Relau Pertumbuhan Kristal: TDR-70A/B (kapasiti 30kg) atau TRDL-800 (kapasiti 60kg);
- Bahan mangkuk pijar: Grafit ketulenan tinggi (kandungan abu ≤5ppm), dimensi Φ300×400mm;
- Kaedah pemanasan: Pemanasan rintangan grafit, suhu maksimum 1200°C.
- Parameter Proses
- Kawalan Leburan:
- Suhu lebur: 500–520°C, kedalaman kolam lebur 80–120mm;
- Gas pelindung: Ar (kesucian ≥99.999%), kadar aliran 10–15 L/min.
- Parameter Penghabluran:
- Kadar tarikan: 1–3mm/j, kelajuan putaran kristal 8–12rpm;
- Kecerunan suhu: Paksi 30–50°C/cm, jejari ≤10°C/cm;
- Kaedah penyejukan: Asas kuprum yang disejukkan dengan air (suhu air 20–25°C), penyejukan radiasi atas.
- Kawalan Kekotoran
- Kesan Pengasingan: Bendasing seperti Fe, Ni (pekali pengasingan <0.1) terkumpul di sempadan butiran;
- Kitaran Peleburan Semula: 3–5 kitaran, jumlah bendasing akhir ≤0.1ppm.
- Langkah berjaga-berjaga:
- Tutup permukaan leburan dengan plat grafit untuk menyekat pengewapan Te (kadar kehilangan ≤0.5%);
- Pantau diameter kristal dalam masa nyata menggunakan tolok laser (ketepatan ±0.1mm);
- Elakkan turun naik suhu >±2°C untuk mengelakkan peningkatan ketumpatan kehelan (sasaran ≤10³/cm²).
IV. Pemeriksaan Kualiti dan Metrik Utama
| Item Ujian | Nilai Piawai | Kaedah Ujian | Sumber |
| Ketulenan | ≥99.99999% (7N) | ICP-MS | |
| Jumlah Kekotoran Logam | ≤0.1ppm | GD-MS (Spektrometri Jisim Pelepasan Cahaya) | |
| Kandungan Oksigen | ≤5ppm | Penyerapan IR-Peleburan Gas Lengai | |
| Integriti Kristal | Ketumpatan Dislokasi ≤10³/cm² | Topografi Sinar-X | |
| Kerintangan (300K) | 0.1–0.3Ω·cm | Kaedah Empat-Probe |
V. Protokol Alam Sekitar dan Keselamatan
- Rawatan Gas Ekzos:
- Ekzos pemanggangan: Meneutralkan SO₂ dan SeO₂ dengan penggosok NaOH (pH≥10);
- Ekzos penyulingan vakum: Mengewap dan mendapatkan semula wap Te; gas sisa terjerap melalui karbon teraktif.
- Kitar Semula Sanga:
- Lendir anod (mengandungi Ag, Au): Dipulihkan melalui hidrometallurgi (sistem H₂SO₄-HCl);
- Sisa elektrolisis (mengandungi Pb, Cu): Kembali ke sistem peleburan kuprum.
- Langkah-langkah Keselamatan:
- Pengendali mesti memakai topeng gas (Wap adalah toksik); mengekalkan pengudaraan tekanan negatif (kadar pertukaran udara ≥10 kitaran/j).
Garis Panduan Pengoptimuman Proses
- Adaptasi Bahan Mentah: Laraskan suhu pemanggangan dan nisbah asid secara dinamik berdasarkan sumber lendir anod (cth., peleburan kuprum vs. plumbum);
- Padanan Kadar Tarikan Kristal: Laraskan kelajuan tarikan mengikut perolakan leburan (nombor Reynolds Re≥2000) untuk menyekat penyejukan lampau perlembagaan;
- Kecekapan Tenaga: Gunakan pemanasan zon suhu dua hala (zon utama 500°C, sub-zon 400°C) untuk mengurangkan penggunaan kuasa rintangan grafit sebanyak 30%.
Masa siaran: 24 Mac 2025
